AI競爭丨吳欣鴻:垂直應用滿足特定場景 美圖應用數據仍增長

對於大模型吞噬應用程式的憂慮，美圖(01357)首席執行官吳欣鴻在公司年會上表示，即使在圖像生成工具Nano Banana發布後，美圖的應用數據仍然快速增長，通用大模型和應用之間存有協同效應。

吳欣鴻坦言，通用大模型「無所不能」，留給應用層的空間已所剩無幾，但通用大模型在特定垂直場景下的效率並沒有很高。他把大模型比喻為「瑞士軍刀」，能勝任通用需求和日常任務，而垂直應用就好比剪刀、美工刀、水果刀、指甲剪等專業工具，滿足不同場景下的特定需求。

他指出，應用開發者在每個時代階段都有空間，關鍵在於對高價值垂直場景的深度挖掘。這類場景普遍存在非常剛性的需求和成本高、效率低的問題，客戶願意為此付費，服務後也能創造出高彈性的增長空間。

吳欣鴻表示，美圖正致力於成為一個不斷產生優質影像應用的平台，打造更多垂直場景的影像產品。